Objetivo de pulverización de cerámica Objetivo de óxido de indio

Objetivo de pulverización catódica de cerámica de óxido de indio

Descripción del producto:
Nuestros diversos objetivos cerámicos, producidos mediante sinterización por prensado en caliente al vacío, cuentan con tecnología líder y procesos de producción maduros. Estos productos se utilizan principalmente en energía solar de película delgada, pantallas planas, recubrimientos ópticos, semiconductores y aplicaciones militares.

Nuestra empresa colabora con numerosas universidades y colegios de renombre, dedicados a la investigación y el desarrollo de nuevos materiales y procesos, y continúa proporcionando productos y servicios de objetivos de alta calidad a clientes tanto a nivel nacional como internacional.

Introducción al objetivo de óxido de indio:
Los objetivos planos de Ln203 se producen mediante un proceso de sinterización por prensado en caliente al vacío. Podemos producir diámetros de hasta 300 mm, con un grosor personalizable para satisfacer las necesidades del cliente.

Parámetros técnicos:Densidad 5.5g/cm³, Pureza: 99.99-99.999%

Control de calidad: