Objetivo de pulverización de cerámica Objetivo de óxido de zinc

Objetivo de pulverización catódica de cerámica, objetivo de óxido de zinc

Descripción del producto:
Nuestros diversos objetivos cerámicos, producidos mediante sinterización por prensado en caliente al vacío, cuentan con tecnología de vanguardia y procesos de producción maduros. Estos productos se utilizan principalmente en energía solar de película delgada, pantallas planas, recubrimientos ópticos, semiconductores y aplicaciones militares.

Nuestra empresa colabora con numerosas universidades nacionales e internacionales de renombre y se dedica a la investigación y el desarrollo de nuevos materiales y procesos, proporcionando continuamente una amplia gama de productos y servicios de objetivos de alta calidad a clientes tanto nacionales como internacionales.

Introducción al objetivo de óxido de zinc:

Los objetivos planos de ZnO se producen mediante un proceso de sinterización por prensado en caliente al vacío. Son posibles diámetros máximos de 300 mm, con espesores personalizables para satisfacer las necesidades del cliente.

Parámetros técnicos:Densidad relativa: >99%, pureza: 99,95%.

Aplicaciones:
Energía solar de película delgada, vidrio de baja emisividad, pantallas planas y recubrimientos ópticos.

Control de calidad: