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EL PROCESO FÍSICO DE LA DEPOSICIÓN DE VAPOR (PVD) SE UTILIZA EN LA FABRICACIÓN DEL MICROPROCESADOR DEL LED, BANDEJA DE SIC PVD

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EL PROCESO FÍSICO DE LA DEPOSICIÓN DE VAPOR (PVD) SE UTILIZA EN LA FABRICACIÓN DEL MICROPROCESADOR DEL LED, BANDEJA DE SIC PVD

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Datos del producto:
Lugar de origen: CHINA
Nombre de la marca: ZG
Certificación: CE
Número de modelo: Ms
Pago y Envío Términos:
Cantidad de orden mínima: 1 pedazo
Precio: USD10/piece
Detalles de empaquetado: Caja de madera fuerte para el envío global
Tiempo de entrega: 3 días laborables
Condiciones de pago: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidad de la fuente: 10000 pedazos por mes

EL PROCESO FÍSICO DE LA DEPOSICIÓN DE VAPOR (PVD) SE UTILIZA EN LA FABRICACIÓN DEL MICROPROCESADOR DEL LED, BANDEJA DE SIC PVD

descripción
uso: industria química fina, industria farmacéutica, ingeniería de la protección del medio ambiente dimensión: el diámetro máximo del bloque del paquete de tubo puede alcanzar 200m m, y la altura puede ser 500m
Material: carburo de silicio Color: Negro
Nombre de producto: bloque del paquete de tubo del carburo de silicio
Resaltar:

bandeja del carburo de silicio de 330m m PVD

,

bandeja del carburo de silicio de 300m m PVD

,

bandeja de 330m m sic PVD

 

Sic bandeja de PVD

 

 

La bandeja del carburo de silicio PVD es formada por proceso el presionar isostático y sinterización en la temperatura alta. El diámetro, el grueso, el número y el tamaño externos de acupoints, de la posición y de la forma del surco de la tableta se pueden también acabar según los requisitos de los dibujos del estudio del usuario de cumplir los requisitos específicos del usuario.

 
Usos típicos
  • El proceso físico de la deposición de vapor (PVD) se utiliza en la fabricación del microprocesador del LED.
 
Características y ventajas
  • Alta densidad
  • Buena conductividad termal, coeficiente de extensión bajo y uniformidad de la temperatura
  • Resistencia de impacto del plasma
  • Resistente a toda clase de corrosión química fuerte el reactivo del ácido y del álcali
  • Después de la limpieza del grado del semiconductor
 
Especificaciones 230/300/330m m
EL PROCESO FÍSICO DE LA DEPOSICIÓN DE VAPOR (PVD) SE UTILIZA EN LA FABRICACIÓN DEL MICROPROCESADOR DEL LED, BANDEJA DE SIC PVD 0

Contacto
HENAN ZG INDUSTRIAL PRODUCTS CO.,LTD

Persona de Contacto: Daniel

Teléfono: 18003718225

Fax: 86-0371-6572-0196

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