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Datos del producto:
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Uso: | Dispositivo de poder más elevado Dispositivo optoelectrónico de la epitaxia de GaN del dispositivo D | Diámetro: | /Ø 6"/Ø/Ø/Ø Ø 1" 2" 3" 4" |
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Grueso: | 330 um ~ 350 um | Grado: | Grado de la producción/grado de la investigación |
Resaltar: | Dispositivo optoelectrónico Wafer SiC,Wafer de SiC para diodos emisores de luz |
Oblea de SIC
La oblea de semiconductor, inc. (SWI) proporciona la oblea de alta calidad del solo cristal sic (carburo de silicio) a la industria electrónica y optoelectrónica. Sic la oblea es un material del semiconductor de la siguiente generación, con las propiedades eléctricas únicas y las propiedades termales excelentes, comparadas a la oblea de silicio y a la oblea del GaAs, sic oblea son más convenientes para la aplicación para dispositivos de la temperatura alta y del poder más elevado. Sic la oblea se puede suministrar en diámetro 2 pulgadas, 4H y 6H sic, N-tipo, nitrógeno dopado, y tipo semiaislante disponible. Éntrenos en contacto con por favor para más información de producto.
Sic uso de la oblea
Dispositivo de alta frecuencia | Dispositivo de alta temperatura |
Dispositivo de poder más elevado | Dispositivo optoelectrónico |
Dispositivo de la epitaxia de GaN | Diodo electroluminoso |
Sic propiedades de la oblea
Polytype | 6H-SiC | 4H-SiC |
Secuencia de amontonamiento cristalina | ABCABC | ABCB |
Parámetro del enrejado | a=3.073A, c=15.117A | a=3.076A, c=10.053A |
Banda-Gap | eV 3,02 | eV 3,27 |
Constante dieléctrica | 9,66 | 9,6 |
Índice de la refracción | n0 =2.707, ne =2.755 | ne =2.777 de n0 =2.719 |
Especificación de producto
Polytype | 4H / 6H |
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Diámetro | /Ø 4"/Ø Ø 2" 3" |
Grueso | 330 um ~ 350 um |
Orientación | En eje <0001> /del eje <0001> de 4° |
Conductividad | N - tipo/semiaislante |
Dopante | N2 ()/V (vanadio) del nitrógeno |
Resistencia (4H-N) | 0,015 ~ 0,03 ohmio-cm |
Resistencia (6H-N) | 0,02 ~ 0,1 ohmio-cm |
Resistencia (SI) | > 1E5 ohmio-cm |
Superficie | El CMP pulió |
TTV | <> |
Arco/deformación | <> |
Grado | Grado de la producción/grado de la investigación |
Persona de Contacto: Daniel
Teléfono: 18003718225
Fax: 86-0371-6572-0196